在光伏.半導體等新型行業(yè)中大多數使用到化學氣相沉積(CVD).金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）.原子層沉積（ALD）.反應離子蝕刻（RIE）等工藝,在這些工藝中工藝中化學品輸送需要使用的輸送設備是整個工業(yè)系統的關鍵，根據市場需要，依托于公司在熱力學方面綜合發(fā)明專利汽化技術（ZL201710323108.8 ,ZL201710164030.X）,我司開發(fā)了液體源汽化系統，系統充分考慮液態(tài)源化學品性質、溫度、濕度變化對流量、品質和穩(wěn)定性的影響，采用精密氣體混合技術對混合氣體濃度進行動態(tài)控制，能夠調節(jié)流入氣體濃度所帶來的變化或偏移，系統包含氣體和液體流量控制器和溫控蒸發(fā)器.集成電源、顯示屏和控制功能，產品應用場景靈活。
